芯片流片中常见的两种方式：MPW与Full Mask 2025 年 3 月 27 日 作者 LSTK 本文始于2025年03月，主要讲解流片过程中常见的两种方式，并给出相关优缺点。另涉及相关的专业术语的地方，本文 … 阅读更多
芯片设计流程中的LEF文件语句解析 2025 年 3 月 29 日2025 年 3 月 26 日 作者 LSTK 本文始于2025年3月，在完成《Abstract 提取LEF文件流程介绍》文章后，发现理解其LEF文件中各语句 … 阅读更多
Abstract 提取LEF文件流程介绍 2025 年 3 月 19 日2025 年 3 月 19 日 作者 LSTK 本文始于2024年12月，以Virtuoso Abstract Generator Version IC6.1 … 阅读更多
介绍LVS 验证的几种方法 2024 年 12 月 31 日 作者 LSTK 本文始于2024年12月，主要讲解屏蔽cell或包含第三方IP的版图如何正确跑LVS。文中案例以virtuos … 阅读更多
介绍Virtuoso中自动放置Pin功能（飞Pin） 2024 年 12 月 19 日2024 年 12 月 18 日 作者 LSTK 本文始于2024年11月，主要讲解virtuoso(v6.1.8)中自动放置pin功能。其在版图layout过 … 阅读更多
浅谈芯片制造中为什么需要外延层（Epitaxial Layer）？ 2024 年 9 月 19 日 作者 LSTK 目录： 1. 外延层定义 2. 外延层的好处 3. 外延层常见的工艺参数 4. 问题与讨论 1. 外延层定义： … 阅读更多
版图Latch up DRC规则解读 2024 年 9 月 21 日2024 年 9 月 19 日 作者 LSTK 目录： 1. Latch up 规则检查前的一些概念名称和解释 2. Latch up 规则中可能用 … 阅读更多
Virtuoso Layout_XL VS Layout_L 大比拼 2024 年 8 月 1 日 作者 LSTK 目录 1. 场景型回合制比拼 2. 问题与讨论 文章开始时的声明：以下对比，纯为笔者个人使用感受总结。工具使用 … 阅读更多
Voltus-Fi—EMIR Analysis Flow 2025 年 1 月 2 日2024 年 7 月 4 日 作者 LSTK 本文主要通过实例讲解了利用Voltus_Fi工具讲解分析版图的EMIR drop Flow，旨在让读者能自己跑 … 阅读更多
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